Shiseido Future Solution LX Extra Rich Cleansing Foam 

SHISEIDO FUTURE SOLUTION LX
EXTRA BOHATÁ ČISTICÍ PĚNA
Na základě více než 40 let zkušeností v oblasti genetického výzkumu

KRÁSA, KTERÁ SE NEUSTÁLE VYVÍJÍ.
NA CELÝ ŽIVOT.

CO TO JE?
Vyzkoušejte sílu tohoto luxusního čisticího přípravku, který hloubkově čistí a hydratuje pleť. Bohatá a luxusní textura obohacená o exkluzivní japonské rostlinné složky se promění ve vynikající pěnu, která zanechá na pokožce příjemný pocit.

VÝSLEDKY:
Čistí pleť od přebytečného kožního mazu a udržuje v ní vlhkost. Připravuje pleť na následnou péči.

Po 3 dnech:
89 % respondentů má pocit, že se produkce kožního mazu snížila*.
*Spotřebitelský test se 111 osobami

JAK TO FUNGUJE?
- Složení extra bohaté čisticí pěny zadržuje v pokožce hydratační složky, které přilnou k povrchu pokožky a po opláchnutí se rozprostřou do tenkého ochranného závoje vlhkosti.
- S exkluzivními japonskými rostlinnými látkami Shiseido: extraktem z bylin Enmei a extraktem z třešňových květů, které podporují odolnost a zářivost pleti.

Water(Aqua/Eau), Myristic Acid, Glycerin, Stearic Acid, Potassium Hydroxide, Sorbitol, Dipropylene Glycol, Lauric Acid, Peg-20 Glyceryl Isostearate, Peg-6, Peg-32, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Glycol Distearate, Glyceryl Stearate Se, Polyquaternium-7, Acrylates Copolymer, Isodonis Japonicus Leaf/Stalk Extract, Prunus Lannesiana Flower Extract, Trisodium Edta, Sodium Methyltaurate, Butylene Glycol, Linalool, Citronellol, Geraniol, Limonene, Sodium Metabisulfite, Cocamidopropyl Betaine, Sodium Lauryl Sulfate, Sodium Benzoate, Fragrance (Parfum), Iron Oxides (Ci 77492), Iron Oxides (Ci 77491).

･ Používejte ráno a večer.
･ Navlhčete obličej a naneste asi 1 cm na dlaň. Smíchejte s malým množstvím studené nebo vlažné vody a vytvořte vydatnou pěnu. Přejeďte po obličeji a vyčistěte jej.
･ Důkladně opláchněte.

･ Chcete-li použít jako vyživující masku, naneste bohatou pěnu tak, abyste se vyhnuli očím a ústům.
･ Hojně napěňte a naneste pěnu tak, aby přilnula k T-zóně se sklonem k mastnotě, a poté k oblasti nosu.

Pěnovou masku naneste na zónu T se sklonem k mastnotě a na nos.
･ Vyčistěte tváře pomocí pěny jako podkladu a jemnými krouživými pohyby vmasírujte.
Oblast T-zóny a nosu, na kterou jste předtím nanesli pěnovou masku, masírujte prsty malými krouživými pohyby, abyste ji důkladně vyčistili.
(Tento krok ukončete po 30 sekundách, aby nedocházelo k nadměrnému tření).
･ Přejeďte pěnou po obličeji a důkladně opláchněte.

Pokud pocítíte nepříjemné pocity, odstraňte přípravek z pokožky.